[发明专利]整体型分离膜结构体及整体型分离膜结构体的制造方法有效
| 申请号： | 201580012179.5 | 申请日： | 2015-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN106102879B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 宫原诚;市川真纪子;铃木秀之 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | B01D69/04 | 分类号： | B01D69/04;B01D69/02;B01D69/10;B01D69/12 |
| 代理公司： | 11432 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 王轶;郑雪娜 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 整体型分离膜结构体及整体型分离膜结构体的制造方法，整体型分离膜结构体(100)包括：多孔的整体型基材(200)和分离膜(300)；整体型基材(200)具有：第一端面(210a)、第二端面(210b)、分别从第一端面(210a)贯通至第二端面(210b)的多个贯通孔(210d)；分离膜(300)形成在多个贯通孔(210d)各自的内表面；分离膜300的表面粗糙度Ra为1μm以下；分离膜300的厚度为5μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 整体 分离 膜结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种整体型分离膜结构体，包括：/n整体型基材，所述整体型基材具有挤压基材层、中间层和表层，所述挤压基材层具有第一端面、第二端面、分别从所述第一端面贯通至所述第二端面的多个贯通孔，所述中间层形成在所述贯通孔的内表面，所述表层通过流下法形成在所述中间层的内表面，/n分离膜，所述分离膜形成在所述表层的内表面，/n所述表层的表面粗糙度Ra为1.0μm以下，/n所述分离膜的表面粗糙度Ra为1.0μm以下，/n所述分离膜的厚度为5.0μm以下。/n
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