[发明专利]形成钙钛矿光敏装置的光敏层的方法有效

专利信息
申请号: 201580011053.6 申请日: 2015-02-24
公开(公告)号: CN106170877B 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: D·瓦克 申请(专利权)人: 联邦科学和工业研究组织
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/42
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 任宗华
地址: 澳大利*** 国省代码: 澳大利亚;AU
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摘要: 一种形成钙钛矿光敏装置的薄膜光敏层的方法,其包括:将钙钛矿前体溶液和聚合物添加剂的至少一个涂层涂覆至基材,其中该至少一种钙钛矿前体溶液包含用于形成具有化学式AMX3的溶解于选自至少一种极性非质子性溶剂的涂料溶剂中的至少一种钙钛矿化合物的至少一种反应成分,该聚合物添加剂可溶于所述涂料溶剂中,并且其中A包括铵基或其它含氮有机阳离子,M选自Pb、Sn、Ge、Ca、Sr、Cd、Cu、Ni、Mn、Co、Zn、Fe、Mg、Ba、Si、Ti、Bi或In,且X选自F、Cl、Br或I中的至少一种。
搜索关键词: 形成 钙钛矿 光敏 装置 方法
【主权项】:
1.一种形成钙钛矿光敏装置的薄膜光敏层的方法,其包括:将至少一个涂层涂覆至基材,该涂层包含至少一种钙钛矿前体溶液和包含至少一种聚合物添加剂的对于钙钛矿结晶的结晶阻滞剂,其中该至少一种钙钛矿前体溶液包含用于形成具有化学式AMX3的溶解于选自至少一种极性非质子性溶剂的涂料溶剂中的至少一种钙钛矿化合物的至少一种反应成分,该聚合物添加剂可溶于该涂料溶剂中,且其中A包括铵基或其它含氮有机阳离子,M选自Pb、Sn、Ge、Ca、Sr、Cd、Cu、Ni、Mn、Co、Zn、Fe、Mg、Ba、Si、Ti、Bi或In,且X选自F、Cl、Br或I中的至少一种,其中该聚合物添加剂占反应成分的0.1至5wt%。
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