[发明专利]含聚酰亚胺前驱体和/或聚酰亚胺的组合物,以及聚酰亚胺膜有效
申请号: | 201580009667.0 | 申请日: | 2015-02-19 |
公开(公告)号: | CN106029743B | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 山口美香;杉山二郎;野口浩;古贺智子;石窪章;加藤刚司 | 申请(专利权)人: | 三菱化学株式会社 |
主分类号: | C08G73/10 | 分类号: | C08G73/10;C08L79/08 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 崔巍 |
地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种耐热性、透过率、低线膨胀系数及低滞后优异的聚酰亚胺材料。本发明所涉及的聚酰亚胺膜,其是包含四羧酸残基与二胺残基的聚酰亚胺膜,其特征在于,所述四羧酸残基与二胺残基中的至少任一者具有弯曲部位,线膨胀系数为60ppm/K以下,且滞后为200nm以下。 | ||
搜索关键词: | 聚酰亚胺 前驱 组合 以及 | ||
【主权项】:
1.一种聚酰亚胺膜,其特征在于,其是包含四羧酸残基与二胺残基的聚酰亚胺膜,所述四羧酸残基与二胺残基中的至少任一者具有弯曲部位,所述聚酰亚胺膜的线膨胀系数为60ppm/K以下,且滞后为200nm以下,所述聚酰亚胺膜含有具有选自III群中的1种以上的结构部分与选自IV群中的1种以上的结构部分的四羧酸残基作为四羧酸残基,以及含有具有式(11)所表示的结构部分的二胺残基作为二胺残基,III群:表示下述式(7)及式(8),
式(7)中,X1表示直接键合的键、亚烷基、羰基、醚键或磺酰基,
IV群:表示下述式(9)及式(10),
式(9)中,n’及m’各自独立地表示0或1,R5及R6各自独立地表示烷基、烯基或芳香环,R5及R6可相同也可不同,或者也可形成环,
式(10)中,Y’表示直接键合的键或2价有机基团,
式(11)中,R7及R8各自独立地表示烷基、烷氧基、氨基或羟基。
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