[发明专利]抗反射玻璃基底及其制造方法

摘要

提供了一种包括具有距表面预定深度的抗反射层的抗反射玻璃基底，所述抗反射玻璃基底的特征在于：抗反射层具有相继从表面开始的深度方向设置的第一层和第二层的至少两层，第一层和第二层中的每个具有多个气孔，第一层的孔隙率小于第二层的孔隙率。此外，提供了一种制造抗反射玻璃基底的方法，所述方法顺序包括利用第一蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤和利用第二蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤，所述方法的特征在于：第一蚀刻液体的多价金属离子的摩尔浓度大于第二蚀刻液体的多价金属离子的摩尔浓度。提供了一种制造抗反射玻璃基底的方法，所述方法顺序包括利用第一蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤和利用第二蚀刻液体蚀刻玻璃基底的步骤，所述方法的特征在于：第一蚀刻液体的氢氧化物和氟化物的摩尔浓度小于第二蚀刻液体的氢氧化物和氟化物的摩尔浓度。

主权项

1.一种制造抗反射玻璃基底的方法，所述抗反射玻璃基底包括形成为从抗反射玻璃基底的表面至预定深度的抗反射层，所述方法依次包括：利用第一蚀刻溶液蚀刻玻璃基底；以及利用第二蚀刻溶液蚀刻玻璃基底，其中，第一蚀刻溶液与第二蚀刻溶液相比具有更大的多价离子的摩尔浓度，所述多价离子包括硼离子和多价金属离子中的至少一种，其中，所述抗反射层包括至少两层，包括顺序地从表面开始在深度方向设置的第一层和第二层，其中，第一层和第二层中的每个具有多个气孔，第一层的孔隙率低于第二层的孔隙率。