[实用新型]横向沟槽电极双通道发射极关断晶闸管有效
申请号: | 201520773650.X | 申请日: | 2015-10-08 |
公开(公告)号: | CN205004339U | 公开(公告)日: | 2016-01-27 |
发明(设计)人: | 赵喜高 | 申请(专利权)人: | 深圳市可易亚半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/74 | 分类号: | H01L29/74;H01L29/423 |
代理公司: | 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 | 代理人: | 廉红果;温洁 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种横向沟槽电极双通道发射极关断晶闸管,包括p型基板、在所述p型基板上层形成的n-漂移层、在n-漂移层的正面形成阴极、双通道栅极和阳极、所述n-漂移层上的阴极与双通道栅极之间形成的n+阴极区、p+基层及p-基层,在所述双通道栅极与阳极之间有一层膜,形成n+浮空区与p-基层,该膜与阴极之间形成p+区与n+缓冲区。本实用新型公开了一种横向沟槽电极双通道发射极关断晶闸管,既能提升击穿电压,又能保持闩锁电流密度不变,并且几乎不产生回跳现象。 | ||
搜索关键词: | 横向 沟槽 电极 双通道 发射极 晶闸管 | ||
【主权项】:
一种横向沟槽电极双通道发射极关断晶闸管,其特征在于:包括p型基板、在所述p型基板上层形成的n‑漂移层、在n‑漂移层的正面形成阴极、双通道栅极和阳极、所述n‑漂移层上的阴极与双通道栅极之间形成的n+阴极区、p+基层及p‑基层,在所述双通道栅极与阳极之间有一层膜,形成n+浮空区与p‑基层,该膜与阴极之间形成p+区与n+缓冲区。
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