[实用新型]基板水分检测装置有效
| 申请号： | 201520770502.2 | 申请日： | 2015-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN204945081U | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 石岩;李伟;郑云友;白忠飞 | 申请（专利权）人： | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/12 | 分类号： | G01N27/12 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种基板水分检测装置，包括：用于与基板表面接触，并传送基板的滚轮；用于获取滚轮外周面上水分信息的水分检测机构，水分检测机构包括至少一个水分检测仪，水分检测仪具有第一状态和第二状态；用于对水分检测仪进行干燥处理的干燥机构；用于控制水分检测仪在第一状态和第二状态之间切换的切换机构；在第一状态，水分检测仪移动至与滚轮的外周面相接触的第一位置，以获取滚轮外周面上水分信息；在第二状态，水分检测仪移动至位于干燥机构内的第二位置，以进行干燥处理。本实用新型的基板水分检测装置，可以有效防止带有水渍的基板进入干法刻蚀设备，提高干法刻蚀设备运行稳定性，提高设备寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 水分 检测 装置 | ||
【主权项】：
一种基板水分检测装置，其特征在于，包括：用于与基板表面接触，并传送基板的滚轮；用于获取滚轮外周面上水分信息的水分检测机构，所述水分检测机构包括至少一个水分检测仪，所述水分检测仪具有第一状态和第二状态；用于对所述水分检测仪进行干燥处理的干燥机构；用于控制所述水分检测仪在所述第一状态和所述第二状态之间切换的切换机构；其中在所述第一状态，所述水分检测仪移动至与所述滚轮的外周面相接触的第一位置，以获取滚轮外周面上水分信息；在所述第二状态，所述水分检测仪移动至位于所述干燥机构内的第二位置，以进行干燥处理。
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