[实用新型]一种CMOS电路元件有效

专利信息
申请号: 201520748496.0 申请日: 2015-09-24
公开(公告)号: CN204905255U 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 陈国斌 申请(专利权)人: 广东合科泰实业有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 何新华;谭启斌
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种CMOS电路元件,所述电路元件,包括P型阱区、N型区、浅沟道隔离区、钨栅极、栅极绝缘层、氮化硅层以及磷硅玻璃层。本实用新型的CMOS电路元件,具有良好的防漏电性能、能够提高器件运行速度等优点。
搜索关键词: 一种 cmos 电路 元件
【主权项】:
一种CMOS电路元件,其特征在于:所述电路元件包括P型阱区、N型区、浅沟道隔离区、钨栅极、栅极绝缘层、氮化硅层以及磷硅玻璃层;所述P型阱区为磷半导体,所述P型阱区上表面的中部设有一个凸台,所述P型阱区上表面在凸台两侧的区域各设有一个N型区;所述P型阱区上表面在两个N型区外侧的区域各设有一个浅沟道隔离区;所述栅极绝缘层复合在钨栅极上,所述栅极绝缘层覆盖除钨栅极上表面以外的区域;所述钨栅极设置在凸台上;所述N型区为氮半导体,所述N型区的高度与凸台的高度相同;所述氮化硅层复合于覆盖氮化硅层上表面、浅沟道隔离区以及钨栅极侧面的栅极绝缘层的区域;所述氮化硅层的厚度与栅极绝缘层的厚度相同;所述磷硅玻璃层复合于氮化硅层上;所述磷硅玻璃层上表面与钨栅极的上表面齐平;所述栅极绝缘层为五氧化二铊制成的栅极绝缘层。
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