[实用新型]膏药填药设备

摘要

一种膏药填药设备，包含：膏药输出机构、膏药轮、复数个顶药机构及入出药调节机构，该膏药轮为可旋转且于该膏药轮旋转对应于一入药旋转区域时，由该膏药输出机构将该膏药注入至该膏药轮的填药凹槽中，并在该膏药轮旋转对应于一出药旋转区域时，由该顶药机构将该膏药自该填药凹槽中顶出而填装至一承料件上。

主权项

一种膏药填药设备，用以将膏药填装至沿一输送路径输送的一承料件上，其特征在于，所述的膏药填药设备包含：膏药输出机构，具有膏药出口，而自所述的膏药出口输出所述的膏药；膏药轮，设置在所述的膏药出口与所述的输送路径的一承料件受料位置之间，所述的膏药轮为可旋转且所述的膏药轮的一膏药轮面的旋转位置具有一入药旋转区域以及一出药旋转区域，所述的入药旋转区域为对应于所述的膏药出口，所述的出药旋转区域为对应于所述的承料件受料位置；复数个顶药机构，设置在所述的膏药轮中且沿着所述的膏药轮的径向方向而在一缩入位置与一顶出位置之间移动，其中于所述的缩入位置时，所述的顶药机构的外端为缩入至低于所述的膏药轮面而于所述的膏药轮面形成一供填入所述的膏药的填药凹槽，以及于所述的顶出位置时，所述的顶药机构的外端为向外移动至膏药轮面，以自所述的填药凹槽顶出所述的膏药；及一入出药调节机构，设置在所述的膏药轮，以导引所述的复数个顶药机构于所述的缩入位置与所述的顶出位置之间往复移动，其中所述的顶药机构于所述的入药旋转区域时经所述的入出药调节机构作用而移动至所述的缩入位置，以及所述的顶药机构于所述的出药旋转区域时经所述的入出药调节机构作用而移动至所述的顶出位置，其中，于所述的入药旋转区域时，所述的膏药自所述的膏药出口注入至所述的膏药轮的填药凹槽中，以及于所述的出药旋转区域时，所述的膏药自所述的填药凹槽中经所述的顶药机构顶出而填装至所述的承料件上。