[实用新型]一种气体分布装置有效
申请号: | 201520711780.0 | 申请日: | 2015-09-15 |
公开(公告)号: | CN205062177U | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 周大恩 | 申请(专利权)人: | 烟台鹏程环保科技有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 264000 山东省烟*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种气体分布装置,包括壳体,壳体设有进气口(4),壳体设有2个以上的出气通孔(2),壳体的内腔设有球体(3),所述壳体为第1球壳体(1),球体(3)的直径大于第1球壳体内壁所形成球面直径的1/2;或所述壳体为第1球壳体(1),第1球壳体(1)的内壁设有2个以上的限位杆(6),所述球体(3)位于所有限位杆(6)端部形成的空间内,所述限位杆(6)朝向所述第1球壳体(1)的中心,所有限位杆(6)端部形成的空间为球面空间,所述球体(3)位于所述球面空间内。本实用新型出风角度不受限。使用效果好,结构简单新颖,成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 气体 分布 装置 | ||
【主权项】:
一种气体分布装置,包括壳体,壳体设有进气口(4),壳体设有2个以上的出气通孔(2),其特征在于:壳体的内腔设有球体(3)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的