[实用新型]一种稳恒磁场辅助激光熔覆装置有效

专利信息
申请号: 201520665259.8 申请日: 2015-08-31
公开(公告)号: CN205024324U 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 刘洪喜;李庆玲;张晓伟;蒋业华 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C23C24/10 分类号: C23C24/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开一种稳恒磁场辅助激光熔覆装置,属表面改性技术领域。该装置包括冷却器、数控操作台、数控机床、试样夹具、磁场发生装置、直流电源、同步送粉器及储气罐等。冷却器、激光器、数控机床及同步送粉器都由数控操作台控制。此外,冷却器与激光器连接,同步送粉器与储气罐相连接,通过送粉喷嘴在通入保护气体的同时向基材喷送熔覆粉末。磁场发生装置与直流电源连接,输出稳恒磁场作用于熔覆层两侧,实现非接触式稳恒磁场辅助激光熔覆对熔覆基材进行表面改性,以改善微观组织和表面综合性能。本装置具有小型易装配、成本低等优点。
搜索关键词: 一种 磁场 辅助 激光 装置
【主权项】:
一种稳恒磁场辅助激光熔覆装置,其特征在于:激光熔覆装置的数控机床(3)上方设有支架(8),支架(8)上设有磁场发生装置(6),磁场发生装置(6)与直流电源(7)连接;磁场发生装置(6)的中间设有试样夹具(4),试样夹具(4)位于激光枪头(11)的正下方,试样夹具(4)的下端固定于数控机床(3)上,激光熔覆装置的同步送粉器(9)与储气罐(10)连通作为保护气体输送装置使用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520665259.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top