[实用新型]一种磁流变抛光设备的磁场发生装置有效
| 申请号： | 201520616863.1 | 申请日： | 2015-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN204935271U | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 许亮;陈永福;许君;李智;危峰 | 申请（专利权）人： | 宇环数控机床股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;H01F7/00 |
| 代理公司： | 长沙新裕知识产权代理有限公司 43210 | 代理人： | 刘熙 |
| 地址： | 410323 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁流变抛光设备的磁场发生装置，包括多个可产生梯度磁场的由极性相反的两个电磁极组成的电磁极组，构成所述多个电磁极组的电磁极采用成环形布置且两相邻磁极的极性相反的三角状磁极。本实用新型用于磁流变液加工多自由度运动的工件，能够在一次装夹下，同时对一个或多个工件的外表面进行抛光加工，其外表面可以是平面、弧面或复杂曲面。本实用新型通过试用证明：可以很有效的解决复杂形面难以抛光的难题，可减少工件加工的工序，有效提高抛光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流变 抛光 设备 磁场 发生 装置 | ||
【主权项】：
一种磁流变抛光设备的磁场发生装置，其特征是包括多个可产生梯度磁场的由极性相反的两个电磁极组成的电磁极组，构成所述多个电磁极组的电磁极采用成环形布置且两相邻磁极的极性相反的三角状磁极。
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