[实用新型]一种光电化学刻蚀设备有效
| 申请号： | 201520448337.9 | 申请日： | 2015-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN204727978U | 公开（公告）日： | 2015-10-28 |
| 发明（设计）人： | 孙广毅;蒋秀芬;赵新 | 申请（专利权）人： | 南开大学 |
| 主分类号： | C25F3/12 | 分类号： | C25F3/12;C25F7/00 |
| 代理公司： | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人： | 刘书元 |
| 地址： | 300071*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光电化学刻蚀设备，用于制备高深宽比硅微纳结构的加工。由左右两个腔体合并组成的腔室，在左腔体上固定有作为阳极的硅片，硅片的背后有铜圈，所述的铜圈中间设有通孔，通孔内放置光源；所述的右腔体中设有作为阴极的铂金片，并通过实心铜圈固定于硅片相对的位置，还包括用于连接左右两个腔体的主腔体上。在外部设备——蠕动泵，电源，灯源的配合下，将硅片作为阳极，铂金片作为阴极置于HF中，即可制得高深宽比较高的多孔硅。是一种无需掩膜，价格低廉，操作简单的光电化学刻蚀设备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光电 化学 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
一种光电化学刻蚀设备，其特征在于：包括左腔体，作为阳极的硅片固定在左腔体上；包括空心铜圈，设置在硅片的背后，所述的空心铜圈中间设有通孔；包括光源，所述的光源放置在空心铜圈的通孔内；包括右腔体，右腔体中设有作为阴极的铂金片；包括实心铜圈，用于将铂金片固定于硅片相对的位置；包括主腔体，用于连接左腔体和右腔体，并使两个腔体合并组成一个刻蚀腔腔室；所述的腔室内装满刻蚀液氢氟酸。
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