[实用新型]一种集流体镀铟系统有效
| 申请号： | 201520431622.X | 申请日： | 2015-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN204779876U | 公开（公告）日： | 2015-11-18 |
| 发明（设计）人： | 邱国和;胡建明 | 申请（专利权）人： | 南平华孚电器有限公司 |
| 主分类号： | C25D7/00 | 分类号： | C25D7/00;C23C18/00 |
| 代理公司： | 北京京万通知识产权代理有限公司 11440 | 代理人： | 万学堂 |
| 地址： | 353099 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种集流体镀铟系统，集流体依次经过抛光装置、去杂质装置、去油污装置、去氧化膜装置、第一水洗装置、活化装置、第二水洗装置、镀铜铟合金装置、镀铟装置、第三水洗装置、动力装置、封闭液封闭装置。本实用新型提供的一种集流体镀铟系统，不仅效率高，而且可以生产出高品质的集流体，使集流体的镀层稳定，从而使其寿命大大延长，同时，还可使集流体表面光亮，不发黑。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流体 系统 | ||
【主权项】：
一种集流体镀铟系统，其特征在于：所述集流体依次经过抛光装置、去杂质装置、去油污装置、去氧化膜装置、第一水洗装置、活化装置、第二水洗装置、镀铜铟合金装置、镀铟装置、第三水洗装置、动力装置、封闭液封闭装置。
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