[实用新型]一种PVD真空离子镀膜机有效

专利信息
申请号: 201520314087.X 申请日: 2015-05-15
公开(公告)号: CN204661820U 公开(公告)日: 2015-09-23
发明(设计)人: 王俊锋 申请(专利权)人: 东莞市瑞鼎纳米科技有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 罗伟平;潘俊达
地址: 523000 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型属于镀膜机技术领域,特别涉及一种PVD真空离子镀膜机,包括真空泵、镀膜箱体和转架,镀膜箱体设置有镀膜腔,真空泵与镀膜腔连通,转架设置于镀膜腔内,在对应转架位置的镀膜腔侧壁上设置有等离子体弧源。将需要镀膜的工具模具放置在转架上,开启真空泵使腔体达到真空镀膜状态,进而开启镀膜腔内的等离子体弧源工作,从而实现对转架上的工具模具进行镀膜;本实用新型的结构简单、镀膜效果理想、维护难度小。
搜索关键词: 一种 pvd 真空 离子 镀膜
【主权项】:
种PVD真空离子镀膜机,其特征在于:包括真空泵、镀膜箱体和转架,所述镀膜箱体设置有镀膜腔,所述真空泵与所述镀膜腔连通,所述转架设置于所述镀膜腔内,在对应所述转架位置的所述镀膜腔侧壁上设置有等离子体弧源。
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