[实用新型]自动对位机构以及设有该自动对位机构的曝光机有效
| 申请号： | 201520161531.9 | 申请日： | 2015-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN204650131U | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 张方德;谢桂平 | 申请（专利权）人： | 浙江欧视达科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国商标专利事务所有限公司 11234 | 代理人： | 宋义兴 |
| 地址： | 325011 浙江省温州市温州高新*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种自动对位机构，包括基座组件、对位支架以及角度调节装置，所述角度调节装置设置在基座组件上，所述角度调节装置包括驱动件、转动体一以及第一驱动装置，所述转动体一的外周面与所述对位支架一端的端面接触，所述第一驱动装置驱动驱动件前进带动所述转动体一进行转动时，所述转动体一的外周面与所述对位支架接触时产生推压力，所述推压力作用在所述对位支架上，驱动对位支架相对基座组件转动a的角度，所述a为(-1-1)°。还公开了一种曝光机，包括曝光机主体、光源装置、控制系统以及自动对位机构，所述自动对位机构安装在曝光机主体上。本实用新型的曝光机通过该对位机构自动调节安装位置，结构简单，稳定性好，调节精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 自动 对位 机构 以及 设有 曝光 | ||
【主权项】：
一种自动对位机构，包括基座组件(100)以及可转动设置在基座组件(100)上的对位支架(200)，其特征在于：还包括调节对位支架(200)相对基座组件(100)转动的角度调节装置(300)，所述角度调节装置(300)设置在所述基座组件(100)上，所述角度调节装置(300)包括与基座组件(100)成滑动配合连接的驱动件(101)、设置在驱动件(101)上的转动体一(103)以及用于驱动所述驱动件(101)平移的第一驱动装置(104)，所述转动体一(103)的外周面与所述对位支架(200)一端的端面相接触，所述第一驱动装置(104)驱动所述驱动件(101)前进带动所述转动体一(103)进行转动时，所述转动体一(103)的外周面与所述对位支架(200)接触时产生推压力，所述推压力作用在所述对位支架(200)上，驱动对位支架(200)相对基座组件(100)转动a的角度，所述a为(‑1‑1)°。
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