[实用新型]一种高亮度发光二极管有效
申请号: | 201520083433.8 | 申请日: | 2015-02-06 |
公开(公告)号: | CN204441319U | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | 马祥柱;白继锋;杨凯;李俊承;张双翔;张银桥;王向武 | 申请(专利权)人: | 扬州乾照光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/42 |
代理公司: | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人: | 江平 |
地址: | 225009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种高亮度发光二极管,属于光电子技术领域,在永久衬底GaAs的一面依次设置N-GaAs过渡层、AlAs/AlGaAs反射层、N-AlGaInP下限制层、MQW多量子阱有源层、P-AlGaInP上限制层、P-GaInP缓冲层、掺杂镁的P-GaP电流扩展层、氧化铟锡透明薄膜和第一电极,在永久衬底GaAs的另一面设置第二电极。在掺杂镁的P-GaP电流扩展层和氧化铟锡透明薄膜之间设置图形化的接触点。由于氧化铟锡透明薄膜具有良好的电流扩展能力,电极通过该氧化铟锡透明薄膜,再通过接触点将电流均匀注入到整个芯片表面,从而减小了电流在电极下方的积聚,减少了电流的无效注入,提升了发光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 亮度 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种高亮度发光二极管,在永久衬底GaAs的一面依次设置N‑GaAs过渡层、AlAs/AlGaAs反射层、N‑AlGaInP下限制层、MQW多量子阱有源层、P‑AlGaInP上限制层、P‑GaInP缓冲层、掺杂镁的P‑GaP电流扩展层、氧化铟锡透明薄膜和第一电极,在永久衬底GaAs的另一面设置第二电极,其特征在于在所述掺杂镁的P‑GaP电流扩展层和氧化铟锡透明薄膜之间设置图形化的接触点。
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