[发明专利]一种可检测掩膜弯曲度的光刻系统及检测方法

摘要

本发明提供一种可检测掩膜弯曲度的光刻系统，需在掩膜制作过程中添加若干个用于测量掩膜弯曲度的测量标记，并在测量标记的对应处设置传感器，用于探测测量标记的信息，即可计算出掩膜弯曲度的变形量，这种光刻系统结构简单，占用空间小，保证了光刻系统运动自由性。本发明还提供一种使用上述的光刻系统的掩膜弯曲度的检测方法，传感器探测得到掩膜上的测量标记的垂向坐标并传输至控制系统，得到用于描述掩膜的变形曲面的曲面计算公式，控制系统根据该计算公式得到变形曲面在扫描方向上和非扫描方向上用于表征掩膜弯曲度的变形量，该方法操作简便，由于可以在曝光过程中实时通过传感器探测信息，并计算掩膜弯曲度，因此保证了检测的及时性和准确性。

主权项

一种可检测掩膜弯曲度的光刻系统，其特征在于，依次包括一照明光源，用于发出照明光；一照明组件，用于使照明光形成平行光；一掩膜，所述掩膜上设有若干个用于测量掩膜弯曲度的测量标记；传感器，用于读取所述测量标记的位置信息；掩膜台，用于承载所述掩膜；物镜系统，用于收集照明光照射在所述掩膜上产生衍射的衍射光束并将收集的衍射光束向下照射；基板，衍射光束透过所述物镜系统照射在基板上，在所述基板上形成与所述掩膜相同的图案；工件台，用于承载所述基板；控制系统，与所述传感器、所述掩膜台、所述工件台、所述物镜系统皆信号连接。