[发明专利]一种高导热石墨膜表面金属涂层的制备方法在审
申请号: | 201511019061.3 | 申请日: | 2015-12-29 |
公开(公告)号: | CN105624608A | 公开(公告)日: | 2016-06-01 |
发明(设计)人: | 欧阳求保;黄宇;郭兴伍;郭嘉成;欧阳杰武;张荻 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/18;C23C14/35 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 徐红银;郭国中 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种高导热石墨膜表面金属涂层的制备方法,所述方法首先将石墨膜用酒精超声清洗干净,然后将石墨膜置于PVD设备中,利用氩离子轰击清洗石墨膜表面,最后通过调控磁场电流、偏压、氩气流量、镀膜温度以及镀膜时间对石墨膜进行金属涂覆处理。本发明所述方法具有涂覆完全且均匀、高效、涂层厚度可控以及结合良好等特点;所制备的高导热金属涂层石墨膜可直接用于热管理领域,也可以用于制备热管理用复合材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 导热 石墨 表面 金属 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高导热石墨膜表面金属涂层的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:第一步,石墨膜前处理:将石墨膜用酒精超声清洗干净以去除石墨膜表面的物理吸附物,然后将酒精清洗后的石墨膜置于PVD设备中,将PVD设备腔体抽真空至6×10‑3Pa以下,调节氩气流量、偏压对石墨膜进行氩离子轰击清洗以去除石墨膜表面的化学吸附物;第二步,石墨膜涂层处理:调控PVD设备控制PVD镀膜条件,包括磁场电流、偏压、氩气流量、镀膜温度以及镀膜时间,对石墨膜进行金属涂覆处理。
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