[发明专利]一种黄瓜的日光温室育苗方法

摘要

本发明公开了一种黄瓜的日光温室育苗方法，包括选种及消毒、育苗盘管理、育苗管理、嫁接和嫁接管理五个步骤。本发明相比现有技术具有以下优点：用热水和温水交替浸种，提高种子的生理活性，同时也提高种子对温度变化的耐受力，增强种子抗病性；本发明中育苗基质制备方法简单，绿色环保，营养丰富，椰糠与发酵的香蕉茎秆和甘蔗渣混拌后，具有较好的保水性和通透性，且氧含量充足，有利于种子育苗过程中对营养的吸收，通过在日光温室中，控制播种后不同的阶段控制相应的育苗条件，降低工人的劳动强度和育苗成本，使黄瓜幼苗能够尽早达到标准，病苗率低，嫁接后成活率高，抗病性强。

主权项

一种黄瓜的日光温室育苗方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）选种及消毒：选择瓜柄短、皮色深、刺微密的黄瓜品种种粒，用55‑60℃热水浸种20‑40分钟后再用25‑30摄氏度的温水浸种2‑4小时，重复两次，在播种前2小时将高效有机硅复合剂稀释20倍后拌种；（2）育苗盘管理：在日光温室内设有多层可移动的育苗架，将育苗盘并排摆放在育苗架上即可，育苗盘装入育苗基质，并用压穴模板压出播种穴，每穴播种2‑3粒种子，然后再种子表面覆盖0.8‑1.5cm厚的覆土，洒水至基质湿润即可；其中，育苗基质由以下方法制成：取香蕉茎秆30份、甘蔗渣10份加入12份猪粪进行高温堆肥，堆置24‑28天后，加入椰糠40份，氨基酸稀土6份，药土2份；覆土由椰糠34份和细土65份混拌均匀后，加入雷公藤浓缩液0.7份和白芷浓缩液0.3份，混拌均匀制得；（3）前苗期管理：a．播种后，控制日光温室内温度为白天30‑34℃、晚上20‑25℃，湿度为50‑60%，控制CO₂浓度为300ppm以上即可；b．出苗后，控制日光温室内温度为白天18‑22℃、晚上8‑12℃，湿度为65‑75%，控制CO₂浓度为600‑750ppm；c．齐苗后，控制日光温室内温度为白天24‑28℃、晚上10‑14℃，湿度为70‑80%，控制CO₂浓度为700‑900ppm；（4）嫁接：当黄瓜幼苗的第一片真叶展开时，将幼苗取出，用靠接法与砧木进行嫁接培养；（5）嫁接后管理：a．嫁接后4天内：控制日光温室内温度为白天28‑32℃、晚上15‑20℃，湿度为90‑95%，控制CO₂浓度为1000‑1200ppm，保证每天日照不少于4小时；b．嫁接后5‑8天内：控制日光温室内温度为白天18‑22℃、晚上8‑12℃，湿度为80‑85%，控制CO₂浓度为800‑1000ppm，保证每天日照不少于2小时；c．嫁接8天后：控制日光温室内温度为白天24‑28℃、晚上10‑14℃，湿度为70‑80%，控制CO₂浓度为700‑900ppm。