[发明专利]光致抗蚀剂图案修整组合物和方法有效
| 申请号： | 201510994176.8 | 申请日： | 2015-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN105739242B | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | I·考尔;C·刘;K·罗威尔 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/40 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供光致抗蚀剂图案修整组合物。所述组合物包含：基质聚合物、芳族磺酸和溶剂，其中所述芳族磺酸包含一或多个氟化醇基。还提供使用所述修整组合物对光致抗蚀剂图案进行修整的方法。所述组合物和方法尤其适用于半导体装置的制造中。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 图案 修整 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种光致抗蚀剂图案修整组合物，其包含：基质聚合物、芳族磺酸和溶剂，其中所述芳族磺酸包含一或多个氟化醇基。
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