[发明专利]高效铜蚀刻剂在审
| 申请号： | 201510990431.1 | 申请日： | 2015-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN105624680A | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 王国祥 | 申请（专利权）人： | 苏州博洋化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/34 | 分类号： | C23F1/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于金属蚀刻技术领域，涉及一种高效铜蚀刻剂，包含以铁计为0.3-4wt％的三价铁盐、以氮计为0.2-3wt％的铵盐、6-15wt％的有机碱和余量的去离子水。本发明通过铵盐与有机碱的复配维持溶液弱碱性，促进铜的浸蚀且不损伤氧化层；缓释氨与二价铜离子络合，促进反应平衡移动，带来铜蚀刻加速，防止铜腐蚀面变得粗糙。 | ||
| 搜索关键词： | 高效 蚀刻 | ||
【主权项】：
一种高效铜蚀刻剂，其特征在于：包含以铁计为0.3‑4wt％的三价铁盐、以氮计为0.2‑3wt％的铵盐、6‑15wt％的有机碱和余量的去离子水。
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