[发明专利]一种铜锌锡硫薄膜太阳电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510984120.4 申请日: 2015-12-24
公开(公告)号: CN105826425B 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 郝瑞亭;刘思佳;任洋;赵其琛;王书荣 申请(专利权)人: 云南师范大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650500 云南省昆明市呈*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种铜锌锡硫薄膜太阳电池的制备方法,该薄膜电池包括钠钙玻璃衬底、金属背电极钼(Mo)层、p型Cu2ZnSnS4吸收层、n型Cd1‑xZnxS缓冲层、ZnO窗口层、Al电极;所述p型Cu2ZnSnS4吸收层的制备方法是:使用四元化合物铜锌锡硫靶,采用一步溅射沉积,无需后续硫化工艺。所述n型Cd1‑xZnxS缓冲层,减少了Cd的使用量,减小了对环境的污染,同时增加了电池的短波吸收,提高了电池的光电转换效率。本发明的薄膜太阳电池具有各元素均无毒无污染、储量丰富、制备工艺简单、光电转换效率较高、成本较低、适合工业化生产等优点。
搜索关键词: 一种 铜锌锡硫 薄膜 太阳电池 制备 方法
【主权项】:
1.一种铜锌锡硫薄膜太阳电池,包括:自下而上依次设置的钠钙玻璃衬底、金属背电极Mo层、p 型 Cu2ZnSnS4吸收层、n 型 Cd 1‑xZnxS 缓冲层、本征 ZnO 及 Al 掺杂 ZnO 窗口层、Al 电极,其特征在于:所述 p 型 Cu2ZnSnS4吸收层由铜锌锡硫化合物靶一步溅射制备,其厚度为1000~1500nm,金属背电极Mo层的厚度为1100nm,n型Cd1‑xZnxS缓冲层的厚度为80nm,本征ZnO层的厚度为200nm,Al掺杂ZnO层的厚度为600nm。
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