[发明专利]一种铜锌锡硫薄膜太阳电池的制备方法有效
申请号: | 201510984120.4 | 申请日: | 2015-12-24 |
公开(公告)号: | CN105826425B | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | 郝瑞亭;刘思佳;任洋;赵其琛;王书荣 | 申请(专利权)人: | 云南师范大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650500 云南省昆明市呈*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明公开了一种铜锌锡硫薄膜太阳电池的制备方法,该薄膜电池包括钠钙玻璃衬底、金属背电极钼(Mo)层、p型Cu2ZnSnS4吸收层、n型Cd1‑xZnxS缓冲层、ZnO窗口层、Al电极;所述p型Cu2ZnSnS4吸收层的制备方法是:使用四元化合物铜锌锡硫靶,采用一步溅射沉积,无需后续硫化工艺。所述n型Cd1‑xZnxS缓冲层,减少了Cd的使用量,减小了对环境的污染,同时增加了电池的短波吸收,提高了电池的光电转换效率。本发明的薄膜太阳电池具有各元素均无毒无污染、储量丰富、制备工艺简单、光电转换效率较高、成本较低、适合工业化生产等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜锌锡硫 薄膜 太阳电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种铜锌锡硫薄膜太阳电池,包括:自下而上依次设置的钠钙玻璃衬底、金属背电极Mo层、p 型 Cu2ZnSnS4吸收层、n 型 Cd 1‑xZnxS 缓冲层、本征 ZnO 及 Al 掺杂 ZnO 窗口层、Al 电极,其特征在于:所述 p 型 Cu2ZnSnS4吸收层由铜锌锡硫化合物靶一步溅射制备,其厚度为1000~1500nm,金属背电极Mo层的厚度为1100nm,n型Cd1‑xZnxS缓冲层的厚度为80nm,本征ZnO层的厚度为200nm,Al掺杂ZnO层的厚度为600nm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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