[发明专利]一种带状线式铁氧体移相器在审

专利信息
申请号: 201510970286.0 申请日: 2015-12-21
公开(公告)号: CN105449319A 公开(公告)日: 2016-03-30
发明(设计)人: 杨青慧;郑向闻;安照辉;李元勋;张怀武;董师伶;郁国良 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01P1/18 分类号: H01P1/18
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 吴姗霖
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种带状线式铁氧体移相器,属于微波通信器件领域。自下而上依次为第一铁氧体层、第一介质层、第二介质层和第二铁氧体层,铁氧体移相器中心开一通孔,以通孔为中心的四个方向上分别为激励线圈结构、第一单元结构、第二单元结构和第三单元结构,所述单元结构包括位于第一介质层和第二介质层之间的带状线结构以及贯穿铁氧体移相器的金属柱。本发明带状线式铁氧体移相器在兼顾插入损耗和平均功率方面的优异性能的同时,能显著减小铁氧体移相器的体积,实现与有源电路的集成;且无需考虑介质材料与铁氧体材料的匹配问题,大大减小了工艺难度;将三个移相器单元集成于一个移相器空间内,增加了集成度,提高了磁化线的利用率。
搜索关键词: 一种 带状线 铁氧体 移相器
【主权项】:
一种带状线式铁氧体移相器,自下而上依次为第一铁氧体层、第一介质层、第二介质层和第二铁氧体层,所述铁氧体移相器中心开一通孔,以通孔为中心的四个方向上分别为激励线圈结构、第一单元结构、第二单元结构和第三单元结构,四个方向中的相邻两个方向垂直,所述第一单元结构、第二单元结构和第三单元结构的第二铁氧体层上表面和第一铁氧体层下表面设置金属导体地,所述单元结构包括位于第一介质层和第二介质层之间的带状线结构以及贯穿铁氧体移相器四层结构的金属柱,所述带状线结构包括第一输入带状线、第二匹配带状线、第三耦合带状线、第四匹配带状线和第五输出带状线,所述第一输入带状线与第二匹配带状线垂直,第二匹配带状线与第四匹配带状线垂直,第二匹配带状线与第四匹配带状线之间串接第三耦合带状线,第四匹配带状线与第五输出带状线相连且位于同一直线上,所述第一输入带状线和第五输出带状线为单元结构的输入、输出端口,带状线结构的两侧各设置一排平行于第一输入带状线的金属柱;所述激励线圈结构包括绕制于第一铁氧体层上的第一线圈和绕制于第二铁氧体层上的第二线圈、采用螺线管绕制方式,所述第一线圈与第二线圈的绕制方向相反,所述第一线圈的输出端与第二线圈的输入端相连,第一线圈的输入端和第二线圈的输出端分别为激励线圈结构的两个输入电极端口。
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