[发明专利]一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法有效
| 申请号: | 201510963031.1 | 申请日: | 2015-12-21 | 
| 公开(公告)号: | CN106238427B | 公开(公告)日: | 2018-10-23 | 
| 发明(设计)人: | 邓文渊;金春水;姚舜;喻波;靳京城 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 
| 主分类号: | B08B11/00 | 分类号: | B08B11/00;B08B7/00;B08B13/00 | 
| 代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 郝明琴 | 
| 地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 | 
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| 摘要: | 本发明涉及极紫外光刻技术领域,具体公开一种极紫外光学元件表面清洗装置及清洗方法。本发明的极紫外光学元件表面污染清洗装置包括清洗腔体;设置于清洗腔体外两侧的进气口和出气口;设置于清洗腔体内的样品支撑调节台、紫外光发生装置、CO2浓度监控装置、O3浓度监控装置;还包括工作气体控制装置、控制电路以及控制终端。本发明清洗装置和清洗方法,能有效实现极紫外光学元件表面污染的彻底清洗,同时防止极紫外光学元件表面发生氧化,提高极紫外光学元件潜在的长期使用寿命;能够保证排出气体的安全性,降低清洗过程对实验室环境和实验人员安全健康的影响。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 紫外 光学 元件 表面 污染 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】:
                1.一种极紫外光学元件表面清洗装置,所述清洗装置包括:清洗腔体;设置于所述清洗腔体内的样品支撑调节台、紫外光发生装置,所述紫外光发生装置用于产生紫外光;工作气体控制装置、控制电路以及控制终端;其特征在于,所述清洗装置还包括:设置于所述清洗腔体外两侧的进气口和出气口;设置于所述清洗腔体内的CO2浓度监控装置、O3浓度监控装置;所述进气口用于通入工作气体;所述样品支撑调节台用于放置待清洗光学元件,并调整所述待清洗光学元件的位置;所述CO2浓度监控装置用于监控清洗过程中所述清洗腔体内的CO2浓度;所述O3浓度监控装置用于监控清洗过程中所述清洗腔体内的O3浓度;所述紫外光发生装置包括高压汞灯,所述高压汞灯为低气体压力高压汞灯;所述CO2浓度监控装置包括红外辐射光源模块和红外光信号探测模块;所述红外辐射光源模块包括可以发射3‑10μm波长红外光源的镍络丝;所述红外光信号探测模块包括光信号滤波收集管、红外光电探测器、光电信号调制和放大电路;所述O3浓度监控装置包括紫外光收集管和紫外光信号探测模块;所述紫外光收集管包括两个相互平行的金属管,所述两个金属管中分别安装有聚焦透镜;所述紫外光信号探测模块包括两个紫外探测光电管。
            
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