[发明专利]基板处理装置和基板处理装置的控制方法有效
| 申请号： | 201510962055.5 | 申请日： | 2012-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN105355532B | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 桧森慎司;山田纪和;大瀬刚 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;邸万杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置以及该基板处理装置的控制方法。上述基板处理装置，包括：内部被减压的处理室；配置在该处理室内、载置基板的载置台；施加等离子体生成用高频电压的第一高频电源；对所述载置台施加偏置电压发生用高频电压、在所述载置台产生偏置电压的第二高频电源；对所述载置台施加矩形波状的直流电压、在所述载置台产生偏置电压的直流电压施加单元；和开关机构，该开关机构配置在所述载置台与所述第二高频电源以及所述直流电压施加单元之间，能够控制所述载置台与所述第二高频电源的连接以及所述载置台与所述直流电压施加单元的连接。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：内部被减压的处理室；配置在该处理室内、载置基板的载置台；施加等离子体生成用高频电压的第一高频电源；对所述载置台施加偏置电压发生用高频电压、在所述载置台产生偏置电压的第二高频电源；对所述载置台施加矩形波状的直流电压、在所述载置台产生偏置电压的直流电压施加单元；和开关机构，该开关机构配置在所述载置台与所述第二高频电源以及所述直流电压施加单元之间，能够控制所述载置台与所述第二高频电源的连接以及所述载置台与所述直流电压施加单元的连接，所述开关机构通过仅选择所述载置台与所述第二高频电源的连接以及所述载置台与所述直流电压施加单元的连接中的任意一方，调整来自所述第二高频电源的输出值和来自所述直流电压施加单元的输出值的比率。
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