[发明专利]图像传感器芯片的封装结构及封装方法有效

专利信息
申请号: 201510960949.0 申请日: 2015-12-18
公开(公告)号: CN106898625B 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 何明 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种图像传感器芯片的封装结构及封装方法,采用芯片背面的衬底沟槽刻蚀工艺来避免使用硅穿孔工艺,同时将沟槽底部暴露出的焊盘的外周边缘修正为阶梯状结构,由此来降低布线金属层的填充难度,增加后续填充的布线金属层与焊盘的接触面积,提高布线金属层的连接可靠性。
搜索关键词: 图像传感器 芯片 封装 结构 方法
【主权项】:
一种图像传感器芯片的封装方法,其特征在于,包括以下步骤:提供封装基板和图像传感器芯片,所述封装基板具有透光区,所述图像传感器芯片形成在一半导体衬底的正面上,且所述图像传感器芯片周围的半导体衬底正面上形成有多个焊盘,每个焊盘是由多层金属层互连而成的金属结构;粘合所述封装基板与所述半导体衬底的正面,其中,所述透光区对应所述图像传感器芯片的感光区;对所述半导体衬底的背面进行刻蚀以形成沟槽,所述沟槽暴露所述焊盘的最底层金属层;刻蚀所述焊盘以使所述焊盘的多层金属层形成阶梯状结构,并在所述半导体衬底的背面形成绝缘层,所述绝缘层暴露所述阶梯状结构的各个台阶表面;在所述绝缘层以及所述阶梯状结构表面形成布线金属层,所述布线金属层与所述阶梯状结构的每层金属层接触;在所述布线金属层表面形成保护层,并刻蚀所述保护层形成暴露出所述布线金属层的多个开口;以及在所述开口中设置凸点。
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