[发明专利]图像传感器芯片的封装结构及封装方法有效
| 申请号: | 201510960949.0 | 申请日: | 2015-12-18 |
| 公开(公告)号: | CN106898625B | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
| 发明(设计)人: | 何明 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
| 地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供一种图像传感器芯片的封装结构及封装方法,采用芯片背面的衬底沟槽刻蚀工艺来避免使用硅穿孔工艺,同时将沟槽底部暴露出的焊盘的外周边缘修正为阶梯状结构,由此来降低布线金属层的填充难度,增加后续填充的布线金属层与焊盘的接触面积,提高布线金属层的连接可靠性。 | ||
| 搜索关键词: | 图像传感器 芯片 封装 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种图像传感器芯片的封装方法,其特征在于,包括以下步骤:提供封装基板和图像传感器芯片,所述封装基板具有透光区,所述图像传感器芯片形成在一半导体衬底的正面上,且所述图像传感器芯片周围的半导体衬底正面上形成有多个焊盘,每个焊盘是由多层金属层互连而成的金属结构;粘合所述封装基板与所述半导体衬底的正面,其中,所述透光区对应所述图像传感器芯片的感光区;对所述半导体衬底的背面进行刻蚀以形成沟槽,所述沟槽暴露所述焊盘的最底层金属层;刻蚀所述焊盘以使所述焊盘的多层金属层形成阶梯状结构,并在所述半导体衬底的背面形成绝缘层,所述绝缘层暴露所述阶梯状结构的各个台阶表面;在所述绝缘层以及所述阶梯状结构表面形成布线金属层,所述布线金属层与所述阶梯状结构的每层金属层接触;在所述布线金属层表面形成保护层,并刻蚀所述保护层形成暴露出所述布线金属层的多个开口;以及在所述开口中设置凸点。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





