[发明专利]MEMS电容式超声波传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510921394.9 申请日: 2015-12-14
公开(公告)号: CN105540528A 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: 王小青;宁瑾;俞育德;魏清泉;刘文文;刘元杰;蒋莉娟 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: B81B3/00 分类号: B81B3/00;B81C3/00;G01H11/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种MEMS电容式超声波传感器及其制备方法,该MEMS电容式超声波传感器,包括:一玻璃衬底,该玻璃衬底的中间为下凹的空腔,在该空腔的两侧上分别开有凹槽;一下电极,其制作在玻璃衬底下凹的空腔底部;一顶层硅,其制作在玻璃衬底上,且覆盖在空腔上,该顶层硅13为振动膜;一上电极,其制作在顶层硅的下表面,且位于空腔的上方,与下电极对应;一保护层,其制作在玻璃衬底两侧的凹槽内,且覆盖顶层硅和玻璃衬底,该凹槽内的保护层内还开有一窗口;其中该上引出电极和下引出电极分别与上电极和下电极连接。本发明可减小寄生电容和提高传感器的灵敏度。
搜索关键词: mems 电容 超声波传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种MEMS电容式超声波传感器,包括:一玻璃衬底,该玻璃衬底的中间为下凹的空腔,在该空腔的两侧上分别开有凹槽;一下电极,其制作在玻璃衬底下凹的空腔底部;一顶层硅,其制作在玻璃衬底上,且覆盖在空腔上,该顶层硅13为振动膜;一上电极,其制作在顶层硅的下表面,且位于空腔的上方,与下电极对应;一保护层,其制作在玻璃衬底两侧的凹槽内,且覆盖顶层硅和玻璃衬底,该凹槽内的保护层内还开有一窗口;其中该上引出电极和下引出电极分别与上电极和下电极连接。
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