[发明专利]物理气相沉积系统与应用其的物理气相沉积方法

摘要

本发明提供一种物理气相沉积系统与应用其的物理气相沉积方法，物理气相沉积系统包含腔室、盖板、台座与准直器。盖板置于腔室上以用于固持靶材。台座置于腔室中以用于支撑晶圆。准直器安装在盖板与台座之间。准直器包含多个侧壁板，侧壁板共同形成多个通道。至少一通道具有入口及与入口相对的出口。入口面对盖板，且出口面对台座。一侧壁板在入口的厚度比侧壁板在出口的厚度薄。因准直器的至少一侧壁在入口的厚度比此侧壁板在出口的厚度薄，或至少一通道的剖面面积大于此通道在出口的剖面面积，原子不会很快阻塞通道，以使得准直器的使用寿命可延长，及可减少工艺维护频率，从而留下更多时间用于制造。

主权项

1.一种物理气相沉积系统，其特征在于，包含：一腔室；一盖板，置于该腔室上以用于固持一靶材；一台座，置于该腔室中以用于支撑一晶圆；以及一准直器，置于该盖板与该台座之间，其中该准直器包含：多个侧壁板，该些侧壁板共同形成多个通道，其中至少一该通道具有一入口与相对于该入口的一出口，该入口面对该盖板，且该出口面对该台座，至少一该侧壁板在该入口的一厚度比该侧壁板在该出口的一厚度薄,且至少一该侧壁板具有一三角形的剖面,包含毗邻该入口的一尖端及两主表面，该些主表面是一平面且由该出口向该尖端倾斜，该些主表面分别面对两毗邻的该通道，以使该通道由该入口朝向该出口渐窄，且其中该侧壁板在该入口的该厚度的范围自1毫米至2厘米。