[发明专利]用于光刻工艺的护膜组件及掩模护膜系统的制造方法

摘要

本公开提供制造护膜组件的方法，此方法包含在载板上方形成脱模层，在脱模层上方制造膜层，将护膜框架附着至膜层，在护膜框架附着至膜层之后，对脱模层实施脱模处理工艺将载板从膜层分开，形成护膜组件，护膜组件包含护膜框架和附着至护膜框架的膜层。

主权项

一种用于光刻工艺的护膜组件的制造方法，包括:在一载板上方形成一脱模层；在该脱模层上方制造一膜层；将一护膜框架附着至该膜层；在该护膜框架附着至该膜层之后，对该脱模层实施一脱模处理工艺将该载板从该膜层分开；以及形成一护膜组件，该护膜组件包含该护膜框架和附着至该护膜框架的该膜层。