[发明专利]一种二维光栅测量系统有效

专利信息
申请号: 201510856579.6 申请日: 2015-11-30
公开(公告)号: CN106813578B 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 张志平;吴萍 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本发明提出一种二维光栅测量系统,利用四个角锥镜,采用垂直入射和倾斜入射两种方式相结合,垂直入射的+1级衍射光和‑1级衍射光进行干涉,倾斜入射的+1级衍射光和‑1级衍射光进行干涉,根据这两路干涉信号获取被测光栅的二维位移信号。当在运动台上合理布局多个测量探头时,即可获取运动台高精度、高稳定性六自由度数据。本专利公布的光栅读头,具有体积小,结构简单,可进行二维测量等特点。
搜索关键词: 一种 二维 光栅 测量 系统
【主权项】:
1.一种二维光栅测量系统,其特征在于,包括:光源,用于发出测量光束;参考光栅,设置于所述光源发出的测量光束路径上,所述测量光束经过参考光栅衍射成零级光、+1级衍射光和‑1级衍射光;被测光栅,与所述参考光栅平行设置,所述零级光垂直入射所述被测光栅并产生零级光衍射光束,所述+1级衍射光和‑1级衍射光入射被测光栅分别产生衍射光束;第一角锥棱镜和第二角锥棱镜,分别设置于所述零级光衍射光束路径上,其产生偏移光束后再次入射至被测光栅并产生零级光偏移衍射光;第一探测器,设置于所述零级光偏移衍射光路径上;第三角锥棱镜和第四角锥棱镜,分别设置于所述+1级衍射光和‑1级衍射光入射被测光栅产生的衍射光束路径上,其产生偏移光束后垂直入射至所述被测光栅后再次产生衍射,所述衍射光束入射至参考光栅产生衍射,分别形成+1级偏移衍射光和‑1级偏移衍射光;第二探测器,设置于所述+1级偏移衍射光和‑1级偏移衍射光路径上;所述第一探测器上两束零级光偏移衍射光产生干涉,所述干涉信号包含被测光栅沿X向的位移信息,所述第二探测器上的+1级偏移衍射光和‑1级偏移衍射光产生干涉,其干涉信号包含被测光栅沿X向和Z向的位移信息。
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