[发明专利]曝光装置、曝光方法、及元件制造方法

摘要

一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。

主权项

一种曝光装置，经由投影光学系统用照明光对基板曝光，其特征在于其具有：框架机构，具有支撑该投影光学系统的测量框架；多个格子部，该多个格子部分别具有反射型格子，以包围该投影光学系统的多个光学元件中最靠像面侧配置的透镜且使与该投影光学系统的光轴正交的既定面相平行地并列设置的方式悬吊支撑于该测量框架；可在该多个格子部的下方移动的载台，该载台具有保持该基板的保持具和设置有凹部的上面，该保持具配置在该凹部内；编码器系统，具有设置于该载台、相对于该多个格子部从该多个格子部的下方分别照射光束的多个读头，该编码器系统测量该载台的位置资讯；基于测量到的该位置资讯控制该载台的移动的控制装置；该多个格子部以通过该反射型格子将该投影光学系统配置的开口包围的方式并列设置、并且以使并列设置的该多个格子部能够在沿该多个格子部的表面的方向位移的方式支撑于该测量框架，该载台以使该基板表面与该上面同一面高的方式在该凹部内通过该保持具保持该基板。