[发明专利]一种用于内照射测量的反宇宙射线系统及反符合方法在审

专利信息
申请号: 201510824243.1 申请日: 2015-11-24
公开(公告)号: CN105496432A 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 骆志平;庞洪超;袁国军;王莹;刘阳;熊文俊;郑国文 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于反宇宙射线技术领域,具体涉及一种用于内照射测量的反宇宙射线系统及反符合方法。包括设置在含有高纯锗探测器的屏蔽室内部的反符合探测器,设置在所述屏蔽室外、与所述反符合探测器、高纯锗探测器连接的电子学装置,所述电子学装置包含有反符合电路和多道分析器,所述反符合探测器用于探测来自外部的宇宙射线信号,所述高纯锗探测器用于内照射测量。现有的内照射测量受宇宙射线影响本底偏高,采用本发明所提供的用于内照射测量的反宇宙射线系统及反符合方法,能够有效降低内照射监测本底,提高探测下限,在获得有效测量效果的前提下,可以减少内照射测量中被测人员的放射性药剂的摄入量,减少被测人员受到的辐射伤害。
搜索关键词: 一种 用于 照射 测量 宇宙射线 系统 符合 方法
【主权项】:
一种用于内照射测量的反宇宙射线系统,其特征是,包括:设置在含有高纯锗探测器(7)的屏蔽室(8)内部的反符合探测器(6),设置在所述屏蔽室(8)外、与所述反符合探测器(6)、高纯锗探测器(7)连接的电子学装置(18),所述电子学装置(18)包含有反符合电路和多道分析器(14),所述反符合探测器(6)用于探测来自外部的宇宙射线信号,所述高纯锗探测器(7)用于内照射测量。
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