[发明专利]一种双面抛光蓝宝石晶片的加工方法在审
申请号: | 201510787638.9 | 申请日: | 2015-11-17 |
公开(公告)号: | CN105313234A | 公开(公告)日: | 2016-02-10 |
发明(设计)人: | 左洪波;杨鑫宏;张学军;袁志勇 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨秋冠光电科技有限公司 |
主分类号: | B28D5/04 | 分类号: | B28D5/04;C30B33/02;C30B33/10;B24B9/16;B24B37/04 |
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地址: | 150001 黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本发明提供了一种双面抛光蓝宝石晶片的加工方法,主要工艺过程包括:多线切割、晶片退火、晶片化学湿法腐蚀、晶片外周倒角、晶片化学机械抛光。采用本发明方法加工蓝宝石晶片,简化了作业步骤,使操作更加简单,可以有效缩短加工周期;在保证晶片厚度和表面质量的前提下,可降低切片过程为后续加工预留的加工余量,提高晶体的利用率,从而降低蓝宝石晶片的生产制造成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 双面 抛光 蓝宝石 晶片 加工 方法 | ||
【主权项】:
一种双面抛光蓝宝石晶片的加工方法,其特征在于它包括以下步骤:(1)将蓝宝石试样利用金刚石多线切割成蓝宝石晶片;(2)将蓝宝石切割片进行高温晶片退火处理;(3) 晶片退火后的晶片利用化学湿法腐蚀去除晶片表面的损伤层;(4)腐蚀后的晶片进行外周倒角;(5)倒角后的晶片利用化学机械抛光加工成最终产品。
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