[发明专利]真空室、用于运行真空室的方法和用于运行真空处理设备的方法在审

专利信息
申请号: 201510772568.X 申请日: 2015-11-12
公开(公告)号: CN105603381A 公开(公告)日: 2016-05-25
发明(设计)人: 罗尼·博切尔;克里斯托夫·豪斯勒 申请(专利权)人: 冯·阿登纳有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C16/54
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 杨生平;钟锦舜
地址: 德国德*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及真空室、用于运行真空室的方法和用于运行真空处理设备的方法。根据不同的实施形式,真空室(100)可以至少具有如下部件:至少一个第一处理区域(101p)和至少一个第二处理区域(103p);用于将要处理的衬底(220)至少从所述第一处理区域(101p)运输到第二处理区域(103p)中的运输装置;设置在第一处理区域(101p)与第二处理区域(103p)之间的气体隔离结构(104);以及设置在第一处理区域(101p)与第二处理区域(103p)之间的气体引导部(104z),用于将惰性气体(114)导入所述气体隔离间隙(104g)中。
搜索关键词: 真空 用于 运行 方法 处理 设备
【主权项】:
一种真空室(100),具有:至少一个第一处理区域(101p)和至少一个第二处理区域(103p);在所述第一处理区域(101p)与所述第二处理区域(103p)之间设置的气体隔离室(304);用于将要处理的衬底(220)在运输方向(101t)上沿着运输平面(101e)至少从所述第一处理区域(101p)穿过气体隔离室(304)运输到第二处理区域(103p)中的运输装置;设置在气体隔离室(304)中的气体隔离结构(104),所述气体隔离结构具有平行于运输平面(101e)延伸的第一板状元件(404p)和横向于运输方向(101t)延伸的第二板状元件(404v),其中所述气体隔离结构(104)借助第一板状元件(404p)形成在所述气体隔离结构(104)与借助所述运输装置运输的要处理的衬底(220)之间的气体隔离间隙(104g),使得阻止气体粒子从这两个处理区域(101p,103p)中的一个处理区域穿过气体隔离间隙(104g)扩散到这两个处理区域(101p,103p)中的另一个处理区域中,并且其中所述气体隔离结构(104)借助第二板状元件(404v)将气体隔离室(304)在所述气体隔离间隙(104g)之上的区域隔离成两个泵出区域(508p,510p);设置在所述气体隔离室(304)中的气体引导部(104z),用于将惰性气体(114)导入所述气体隔离间隙(104g)中;以及与所述气体隔离室(304)耦接的泵装置(520),所述泵装置接入这两个泵出区域(508p,510p),其中所述气体隔离结构(104)设置为,使得穿过这两个泵出区域(508p,510p)到所述气体隔离间隙(104g)进行泵接入,用于将导入的惰性气体从气体隔离间隙(104g)泵出。
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