[发明专利]可射出将干涉条纹的影响降低的光的光源装置以及采用该光源装置的投影仪在审
| 申请号： | 201510764890.8 | 申请日： | 2013-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN105223764A | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 黑崎秀将 | 申请（专利权）人： | 卡西欧计算机株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的光源装置及投影仪，为了减小激光的干涉条纹的厚度，特征在于：①按每个照射区域来改变微透镜阵列的透镜特性；或者②激光元件按照取向分别不同的方式设置；或者③使准直透镜的聚光度分别不同。 | ||
| 搜索关键词： | 射出 干涉 条纹 影响 降低 光源 装置 以及 采用 投影仪 | ||
【主权项】：
一种光源装置，其特征在于，具备由多个激光发光元件构成的光源；按照下述方式配置上述多个激光发光元件，即：从上述多个激光发光元件中的1个激光发光元件发出的光的配光的朝向不同于从上述多个激光发光元件中的其它激光发光元件发出的光的配光的朝向。
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