[发明专利]一种金属-碳纳米管复合多孔电极材料的制备方法有效
| 申请号: | 201510715367.6 | 申请日: | 2015-10-28 |
| 公开(公告)号: | CN105206433B | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
| 发明(设计)人: | 穆俊江;韦雁途;吴天和 | 申请(专利权)人: | 梧州三和新材料科技有限公司 |
| 主分类号: | H01G11/86 | 分类号: | H01G11/86;H01M4/04;H01M4/88 |
| 代理公司: | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 崔自京 |
| 地址: | 543008 广西壮族自治区梧州市万秀*** | 国省代码: | 广西;45 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种金属‑碳纳米管复合多孔电极材料的制备方法。通过多孔金属材料上沉积一层过渡金属层,然后以该过渡金属层作为催化剂,在过渡金属层上生长碳纳米管。本发明的优点是生长在多孔基底上的碳纳米管杂质少、均匀有序、一致性好,所制备的电极材料比表面积高、导电性好,使用寿命长,且该材料的制造过程稳定高效,易于实现连续化生产。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 金属 纳米 复合 多孔 电极 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种金属‑碳纳米管复合多孔电极材料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)以多孔金属为基体,多孔金属具有开孔的三维立体结构,平均孔直径为100μm~3000μm,厚度为0.3mm~70mm;(2)在(1)所述的基体上用真空镀工艺沉积过渡金属层,其中真空镀工艺是指真空磁控溅射技术,其工作参数为:真空腔本底真空≤5×10‑2Pa,溅射镀膜时真空腔室内压力≤1Pa,每分米靶宽幅施加的靶功率密度为0.1千瓦~1千瓦,过渡金属层的平均厚度为5nm~2000nm;(3)在(2)所述的过渡金属层上用化学气相沉积法制备碳纳米管:把经过步骤(2)处理的多孔金属置于真空炉腔内,抽真空至炉腔内部本底真空≤2Pa,再升温至650℃~900℃,升温过程中通入氩气作为保护气,当达到设定温度后通入碳源气体,碳源气体与氩气的体积比为1:20~1,反应10分钟~100分钟后结束,停止通入碳源气体,在氩气气氛的保护下冷却至室温,碳纳米管的平均直径为2nm~50nm,平均长度为1μm~100μm。
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