[发明专利]一种光响应智能印迹介孔材料的制备方法及用途

摘要

本发明提供了一种光响应智能印迹介孔材料的制备方法及用途，所述方法包括制备4‑[4‑(甲基丙烯酰氧基)苯基偶氮]苯甲酸的步骤和制备乙烯基功能化的介孔材料SBA‑15‑MPS的步骤，还包括制备光响应印迹介孔材料的步骤。将模板分子与MPABA于体积比为4:1的甲醇/DMSO混合溶液中避光处理，取SBA‑15‑MPS分散于甲醇中混匀；将上述两种液体混合后再加入交联剂，置于水浴中，升温至一定温度后加入引发剂混匀，最后氮气除氧后密封，黑暗条件下磁力搅拌反应；反应结束后，收集聚合物，洗涤，真空干燥，再进行交替光照射处理，即可得到产物。本材料能够在复杂环境中选择性富集分离目标物，且基于介孔材料制备，赋予其较其他光响应印迹材料更大的吸附容量。

主权项

1.一种光响应智能印迹介孔材料，其特征在于，所述光响应智能印迹介孔材料按照以下方法制备：步骤1、将模板分子与所制备的4-[4-(甲基丙烯酰氧基)苯基偶氮]苯甲酸MPABA置于体积比为4:1的甲醇/DMSO混合溶液中混匀得到混合液A，避光处理；取所制备的乙烯基功能化的介孔材料SBA-15-MPS分散于甲醇中混匀，得到混合液B，将混合液A加入到混合液B中混匀，得到混合液C；向混合液C中加入交联剂混匀得到混合液D，将混合液D置于水浴中，升温至一定温度后加入引发剂混匀，得到混合液E，将混合液E氮气除氧后密封，黑暗条件下磁力搅拌反应；反应结束后，收集聚合物，洗涤，真空干燥，备用；步骤2、将干燥后的聚合物分散于DMSO中，搅拌条件下用紫外光照射，过滤后再用体积比为4:1的甲醇/DMSO溶液洗涤；将洗涤后的产物重新分散于DMSO中，搅拌条件下用可见光照射，用体积比为4:1的甲醇/DMSO溶液洗涤产物，如此重复交替照射三次；最后将产物过滤，真空干燥，得到光响应印迹介孔材料；步骤1中，所述模板分子为双酚A，所述交联剂为二甲基丙烯酸乙二醇酯，所述引发剂为偶氮二异丁腈；制备混合液A时所用的MPABA与双酚A的物质的量之比为2.4:1，双酚A与甲醇/DMSO混合溶液的用量比为11.4~22.8mg：10mL；制备混合液B时，所用的SBA-15-MPS与甲醇的用量比为5mg：3mL；制备混合液C时，所用的混合液A和混合液B的体积比为1:3；制备混合液D时，所述二甲基丙烯酸乙二醇酯的加入量为每10mL混合液C中加入12.5~49.5mg；制备混合液E时，所述偶氮二异丁腈的加入量为每10mL混合液D中加入1.25~2.5mg；步骤2中，所述紫外光和可见光照射时间均为2h。