[发明专利]三维半导体器件有效

专利信息
申请号: 201510684447.X 申请日: 2010-12-20
公开(公告)号: CN105185784B 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 沈载株;金汉洙;赵源锡;张在薰;曹雨辰 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11551 分类号: H01L27/11551;H01L27/11578
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王新华
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种三维半导体器件。该三维半导体器件可包括:模结构,具有间隙区;以及互连结构,包括设置在间隙区中的多个互连图案。该模结构可包括限定互连图案的上表面和下表面的层间模以及限定低于层间模的互连图案的侧壁的侧壁模。
搜索关键词: 三维 半导体器件
【主权项】:
1.一种三维半导体器件,包括:基板,包括单元阵列区和连接区;一结构,包括交替且垂直地堆叠在所述基板上的多个导电图案和多个层间模;多个有源图案,穿透所述结构;和多个侧壁模,与所述有源图案间隔开并设置在所述导电图案的侧壁上,每个所述侧壁模设置在彼此垂直相邻的所述层间模之间并与所述层间模中的相邻层间模接触,其中所述侧壁模由与所述层间模不同的绝缘材料形成,以及其中所述侧壁模从所述单元阵列区延伸到所述连接区。
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