[发明专利]离子基团诱导复合相修饰的富锂层状正极材料在审

专利信息
申请号: 201510661762.0 申请日: 2015-10-14
公开(公告)号: CN105322148A 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 赵乃勤;郭立超;师春生;刘恩佐;何春年 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01M4/36 分类号: H01M4/36;H01M4/1391;H01M4/505;H01M4/525
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 程毓英
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种离子基团诱导复合相修饰的富锂层状正极材料,该富锂层状正极材料的组成是,内层为粒径50~200nm的富锂层状正极材料,外薄层为硫酸根部分取代的氧化钼,在内层与外薄层之间为硫代钼酸根和富锂层状正极材料表面的富锂相Li2MnO3原位反应生成的尖晶石相区和复合相区组成的中间层;外薄层厚度小于5nm,中间层厚度为10~30nm。本发明同时提供了该种正极材料的制备方法。本发明修饰材料使用量少,工艺操作简单,结构可控性强,并且制得的复合修饰的富锂层状正极材料具有更好的电化学性能。
搜索关键词: 离子 基团 诱导 复合 修饰 层状 正极 材料
【主权项】:
一种离子基团诱导复合相修饰的富锂层状正极材料,其特征在于,该富锂层状正极材料的组成是,内层为粒径50~200nm的富锂层状正极材料,外薄层为硫酸根部分取代的氧化钼,在内层与外薄层之间为硫代钼酸根和富锂层状正极材料表面的富锂相Li2MnO3原位反应生成的尖晶石相区和复合相区组成的中间层;外薄层厚度小于5nm,中间层厚度为10~30nm。
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