[发明专利]一种含杂环的硝基咔唑肟酯类光引发剂在审
| 申请号: | 201510645356.5 | 申请日: | 2015-10-08 |
| 公开(公告)号: | CN106565690A | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
| 发明(设计)人: | 钱晓春;胡春青;于培培;程如文 | 申请(专利权)人: | 常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司 |
| 主分类号: | C07D405/12 | 分类号: | C07D405/12;C07D409/12;C07D403/12;C07D401/12;C08F2/48 |
| 代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
| 地址: | 213159 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开一种含杂环的硝基咔唑肟酯类光引发剂,具有如通式(I)所示结构。通过在硝基咔唑肟酯结构中引入杂环基团,有效地改善了化合物溶解性不足的缺陷,产品感光活性高,储存性能好,并且应用于光固化领域具有成膜后残渣少、图案清晰等优点。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 含杂环 硝基 咔唑肟酯类光 引发 | ||
【主权项】:
一种含杂环的硝基咔唑肟酯类光引发剂,具有如下式(I)所示结构:其中,R1代表H、C1‑C20的直链或支链烷基、C4‑C20的环烷基烷基、C2‑C20的链烯基,其中的‑CH2‑可任选地被‑O‑、‑S‑、‑NH‑、‑CO‑O‑、或‑O‑CO‑所取代;R2代表C1‑C10的亚烷基、C3‑C10的亚环烷基、C6‑C30的亚芳基或取代亚芳基,其中,亚烷基中的‑CH2‑可任选地被亚苯基、C1‑C4烷基取代的亚苯基、C3‑C6的亚环烷基所取代,且苯基中的CH可任选地被N所取代;R3代表含杂环的基团;R4代表C1‑C20的直链或支链烷基、C3‑C20环烷基、C4‑C20的烷基环烷基或环烷基烷基、C6‑C30的芳基、C7‑C30的芳烷基、C2‑C20的链烯基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司,未经常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510645356.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。





