[发明专利]电池保护包及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 201510643913.X 申请日: 2015-10-08
公开(公告)号: CN106571352B 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: 牛志强;薛彦迅;胡满升;鲁军;何约瑟;哈姆扎·依玛兹 申请(专利权)人: 万国半导体股份有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁;徐雯琼
地址: 美国加利福尼亚9408*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提出了小尺寸的电池保护包,以及小尺寸电池保护包的制备工艺。该电池保护包包括一个第一共漏金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)、一个第二共漏MOSFET、一个功率控制集成电路(IC)、多个焊锡球、多个导电凸起以及一个封装层。功率控制IC垂直堆栈在第一和第二共漏MOSFET上方。至少将一大部分功率控制IC以及至少将绝大部分的多个焊锡球嵌入在封装层中。制备电池保护包的工艺包括制备功率控制IC;制备共漏MOSFET晶圆;将功率控制IC与共漏MOSFET晶圆集成并且连接引脚分配;制备一个封装层;进行研磨工艺;制备一个金属层;并且分离电池保护包。
搜索关键词: 电池 保护 及其 制备 工艺
【主权项】:
1.一种电池保护包,其特征在于,包括:一个第一共漏MOSFET,具有第一多个接合焊盘和第二多个接合焊盘;一个第二共漏MOSFET,具有第一多个接合焊盘和第二多个接合焊盘;一个钝化层,形成在所述的第一和第二共漏MOSFET上方,具有开口的钝化层使第一共漏MOSFET的第一和第二多个接合焊盘以及第二共漏MOSFET的第一和第二多个接合焊盘裸露出来;一个金属层,沉积在所述的第一和第二共漏MOSFET的底面上;一个功率控制IC,垂直堆栈在所述的第一和第二共漏MOSFET上方;多个焊锡球,连接到所述的第一共漏MOSFET的第一多个接合焊盘以及第二共漏MOSFET的第一多个接合焊盘上;多个导电凸起;以及一个封装层;其中至少一大部分功率控制IC以及至少绝大部分的多个焊锡球嵌入在封装层中,并且其中所述的功率控制IC通过多个导电凸起,电耦合到第一共漏MOSFET的第二多个接合焊盘以及第二共漏MOSFET的第二多个接合焊盘上;所述的金属层通过银环氧树脂,连接到引线框的芯片焊盘上。
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