[发明专利]基板、膜形成基板的制造方法以及涂布装置有效
| 申请号： | 201510622698.5 | 申请日： | 2015-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN105467685B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 西中胜喜;梶原慎二 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子装置株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 陶敏;臧建明 |
| 地址： | 日本神奈川县横*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板、膜形成基板的制造方法以及涂布装置。本发明的课题在于抑制产生于膜形成区域的膜厚不均。本发明的基板(1)形成有沿着膜形成区域(2)的外周的凹槽(10)，在凹槽(10)与膜形成区域(2)之间，包含并列有多个凹部(20)的凹部群(20N)，并且凹部群(20N)的各凹部(20)的形状形成为如下形状：使涂布于基板(1)上的液体相比于从膜形成区域(2)朝向凹槽(10)的方向，在从凹槽(10)朝向膜形成区域(2)的方向上更难流动。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 形成 制造 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
一种基板，形成有沿着膜形成区域的外周的凹槽，所述基板的特征在于：在所述凹槽与所述膜形成区域之间，包含并列有多个凹部的凹部群，并且所述凹部群的各凹部的形状形成为如下形状：使涂布于所述基板上的液体相比于从所述膜形成区域朝向所述凹槽的方向，在从所述凹槽朝向所述膜形成区域的方向上更难流动。
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