[发明专利]一种双电缸垂直升降的开腔结构在审
| 申请号： | 201510585185.1 | 申请日： | 2015-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN106521448A | 公开（公告）日： | 2017-03-22 |
| 发明（设计）人： | 陈英男;姜崴;郑旭东;关帅;李景舒;霍阳阳 | 申请（专利权）人： | 沈阳拓荆科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/44 |
| 代理公司： | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙)21229 | 代理人： | 甄玉荃,霍光旭 |
| 地址： | 110179 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种应用于半导体薄膜沉积设备的双电缸垂直升降的开腔结构。双电缸倒置安装，同步控制，两侧提供举升力开启腔体上盖板。属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域。包括上盖板，设置在腔体上，用于开启与开闭；两个电机，分别固定安装在两个电缸主体上，与电缸主体一起倒置设置在上盖板的上方，通过电缸主体与上盖板固定；电缸推杆，穿过上盖板与电机的输出轴连接，其端部固定安装在腔体上。本发明通过双电缸倒置式安装，两侧提供举升力，避免单边受力造成上盖板扭曲变形。电缸推杆安装在腔体上，电缸主体安装在上盖板上，运动过程中，杠杆伸出，使电缸主体与上盖板一起运动。倒置式安装方式，节省设备下方所需空间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双电缸 垂直 升降 开腔 结构 | ||
【主权项】：
一种双电缸垂直升降的开腔结构，其特征在于，包括：上盖板，设置在腔体上，用于开启与开闭；两个电机，分别固定安装在两个电缸主体上，与电缸主体一起倒置设置在上盖板的上方，通过电缸主体与上盖板固定；电缸推杆，穿过上盖板与电机的输出轴连接，其端部固定安装在腔体上。
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