[发明专利]用于气体探测装置的光学腔有效

专利信息
申请号: 201510581542.7 申请日: 2015-06-26
公开(公告)号: CN105223151B 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: L·奇西;H·雷西格尔;G·沙巴尼斯;P·劳伦斯;M·阿莱利 申请(专利权)人: 施耐德电器工业公司
主分类号: G01N21/3504 分类号: G01N21/3504;G01N21/03
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 姚冠扬
地址: 法国吕埃*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种用于气体探测装置的光学腔(4),其包括用于反射由辐射源(1)发出的辐射(R),并且将所述辐射(R)朝向辐射探测器(2)重新导向的反射部件,反射部件包括第一系列相邻的反射镜(Mi)和第二系列相邻的反射镜(M’i)。第一系列中的反射镜(Mi)和第二系列中的反射镜(M’i)为截顶旋转椭球型。第一系列反射镜和第二系列反射镜相对布置,从而由辐射源(1)发出的辐射交替地由第二系列的反射镜(M,i)和第一系列中的反射镜(Mi)反射,从而限定了在辐射源(1)至辐射探测器(2)之间延伸的光路。
搜索关键词: 用于 气体 探测 装置 光学
【主权项】:
1.用于气体探测装置的光学腔(4),包括:–用于反射由辐射源(1)发出的辐射(R),并且将所述辐射(R)朝向辐射探测器(2)重新导向的反射部件;其特征在于:–反射部件包括第一系列相邻的反射镜(Mi)和第二系列相邻的反射镜(M’i);–第一系列的反射镜(Mi)和第二系列的反射镜(M’i)具有两个焦点;–第一系列的反射镜和第二系列的反射镜相对于彼此地布置,从而由辐射源(1)发出的辐射交替地由第二系列的反射镜(M’i)和第一系列中的反射镜(Mi)反射,并且限定从辐射源(1)延伸至辐射探测器(2)的光路;并且–所述光学腔室包括互相固定在一起的两个部分,第一系列反射镜(Mi)形成在其中的下部(42)和与下部连接在一起的上部,第二系列反射镜(M’i)形成在所述上部(43)中,第二系列中有n个反射镜,第一系列中有n‑1个反射镜,n大于或等于3,反射镜布置成:–第二系列中的反射镜M’i布置成将辐射聚焦至第一系列中的反射镜Mi上,反射镜Mi定位在第二系列中的反射镜M’i的焦点上,i包括在1至n‑1之间;–第一系列中的反射镜Mi,所述反射镜被定位在反射镜M’i的焦点处,布置成将辐射聚焦至第二系列中的反射镜M’i+1上,i包括在1至n‑1之间;–第二系列中的反射镜M’i,其中i=n,布置成聚焦辐射至探测器上;并且–第二系列中的反射镜M’i,其中i=1,布置成接收来自辐射源的辐射。
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