[发明专利]一种立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法有效
申请号: | 201510570650.4 | 申请日: | 2015-09-09 |
公开(公告)号: | CN106521432B | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | 林晨光;左冬华;曹瑞军;林中坤;谢兴铖 | 申请(专利权)人: | 北京有色金属研究总院 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/58 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 刘徐红 |
地址: | 100088 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法,属超硬材料应用领域。采用物理气相沉积法在立方氮化硼微粉颗粒表面镀膜,在物理气相沉积设备的靶材室装入金属或合金阴极靶材,然后将立方氮化硼微粉放入滚筒式沉积台;关闭镀膜室门,设定气相沉积参数,进行物理气相沉积镀膜;将镀膜后的立方氮化硼微粉在真空热处理炉中进行热处理,即得到表面金属化改性的立方氮化硼颗粒粉体。本发明方法适用材料范围广、操作简便、环境友好、能耗低,所镀涂层均匀完整,不易脱落,可实现规模化生产。表面金属化改性后的cBN微粉颗粒热稳定性和化学稳定性提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 立方 氮化 硼微粉 颗粒 表面 金属化 改性 方法 | ||
【主权项】:
1.一种立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法,包括以下步骤:(1)采用物理气相沉积法在立方氮化硼微粉颗粒表面镀膜,在物理气相沉积设备的镀膜室装入金属或合金阴极靶材,然后将立方氮化硼微粉放入滚筒式沉积台;关闭镀膜室门,设定气相沉积参数,进行物理气相沉积镀膜;立方氮化硼微粉的费氏粒度≤3.0μm,阴极靶材为钨、钼、钛、钒、铬、钴、镍、铝单质或其合金,阴极靶材为两种以上不同的金属或合金靶材,两种以上靶材交替沉积,得到的金属膜层为多层,或者两种以上靶材共沉积,得到的金属膜层为合金层;物理气相沉积过程中,预抽本底真空至3.0×10‑3Pa以下,通入工作气体Ar气,镀膜过程中溅射气压设定在0.1~10Pa;样品加热温度为100~400℃;靶材功率密度范围为5~30W/cm2;滚筒式沉积台的转速为12~50r/min;振动系统的振动频率为10~50Hz;镀膜时间为0.5~20h;(2)将镀膜后的立方氮化硼微粉在真空热处理炉中进行热处理,热处理的温度为400~1400℃,热处理保温时间为20~120min,即得到表面金属化改性的立方氮化硼颗粒粉体。
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