[发明专利]一种配备有开孔挡板的真空镀膜机系统

摘要

本发明公开一种配备有开孔挡板的真空镀膜机系统，真空镀膜过程中，为优化薄膜分布，光学元件在镀膜机内做旋转运动，使得光学元件上任意位置处膜料沉积角均具有较宽的分布范围，而且不同位置上膜料沉积角分布范围存在明显差异，同时薄膜厚度分布均匀性较差。本发明在蒸发或溅射源与光学元件间放置开孔挡板，真空镀膜过程中，膜料穿过开孔挡板沉积到光学元件上。通过优化挡板的开孔形状，实现对光学元件上膜料沉积角分布控制，降低膜料沉积角及其分布范围，并且校正光学元件上薄膜厚度非均匀性，提高薄膜性能。与传统的真空镀膜相比，本发明采用开孔挡板设计能同时优化光学元件上薄膜膜料沉积角和厚度均匀性。

主权项

一种配备有开孔挡板的真空镀膜机系统，其特征在于：该系统包括光学元件(1)，膜料蒸汽(2)，带孔挡板(3)和蒸发或溅射源(4)；通过在蒸发或溅射源(4)与光学元件(1)间放置带孔挡板(3)，真空镀膜过程中，膜料蒸汽(2)穿过带孔挡板(3)沉积到光学元件(1)上，优化带孔挡板(3)的开孔形状，实现对光学元件(1)上膜料沉积角分布控制，降低膜料沉积角及其分布范围，并且校正光学元件上薄膜厚度非均匀性，提高薄膜性能，其中，所述的膜料沉积角是光学元件(1)上膜料沉积点与蒸发或溅射源(4)间的连线矢量与光学元件(1)上膜料沉积点的表面法向量之间的夹角。