[发明专利]一种硅基异质结电池的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510559256.0 申请日: 2015-09-06
公开(公告)号: CN106505128A 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 杨与胜;王树林 申请(专利权)人: 钧石(中国)能源有限公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20;H01L21/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种硅基异质结电池的制备方法,其包括提供N型硅片;在N型硅片的一面上沉积本征非晶硅膜层和N型非晶硅层,另一面上沉积本征非晶硅膜层和P型非晶硅层;分别在P型非晶硅层和N型非晶硅层上沉积透明导电膜层;分别在P型非晶硅层和N型非晶硅层的透明导电膜层上沉积阻挡层和种子铜层;分别在两面的种子铜层上铺设感光干膜,通过曝光和显影在种子铜层上形成栅线图案;通过含氧等离子体与种子铜层表面的碳残留物反应后生成二氧化碳以去除种子铜层上的碳残留物;在种子铜层的栅线图案上电镀铜,形成铜栅线电极。本发明去除了种子铜层上的残留物,提高了太阳能器件可靠性和性能。
搜索关键词: 一种 硅基异质结 电池 制备 方法
【主权项】:
一种硅基异质结电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:提供N型硅片;在N型硅片的一面上沉积本征非晶硅膜层和N型非晶硅层,另一面上沉积本征非晶硅膜层和P型非晶硅层;分别在P型非晶硅层和N型非晶硅层上沉积透明导电膜层;分别在P型非晶硅层和N型非晶硅层的透明导电膜层上沉积阻挡层和种子铜层;分别在两面的种子铜层上铺设感光干膜,通过曝光和显影在种子铜层上形成栅线图案;通过含氧等离子体与种子铜层表面的碳残留物反应后生成二氧化碳以去除种子铜层上的碳残留物;在种子铜层的栅线图案上电镀铜,形成铜栅线电极。
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