[发明专利]电解槽下料系统和电解槽系统有效
申请号: | 201510545563.3 | 申请日: | 2015-08-31 |
公开(公告)号: | CN105063666B | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 周兴华;章宣;洪波;敬叶灵 | 申请(专利权)人: | 晟通科技集团有限公司 |
主分类号: | C25C7/00 | 分类号: | C25C7/00;C25C3/14 |
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地址: | 410200 湖南省长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明提供一种电解槽下料系统和电解槽系统。所述电解槽下料系统包括料箱、定容下料器和下料槽,所述料箱收容电解质原料,所述定容下料器部分收容于所述料箱,所述定容下料器将所述料箱收容的电解质原料输出到所述下料槽,所述下料槽设于所述料箱的下方,所述下料槽包括上料口和下料口,所述上料口位于所述定容下料器的下方,并接收通过所述定容下料器提供的电解质原料;所述下料槽内部设有滚筒,所述滚筒位于所述上料口和所述下料口之间,所述滚筒的表面形成有凹槽结构,所述电解质原料经所述上料口落入所述滚筒的凹槽结构内。本发明还提供一种使用所述电解槽下料系统的电解槽系统。 | ||
搜索关键词: | 电解槽 系统 | ||
【主权项】:
1.一种电解槽下料系统,其包括料箱、定容下料器和下料槽,所述料箱收容电解质原料,所述定容下料器部分收容于所述料箱,所述定容下料器将所述料箱收容的电解质原料输出到所述下料槽,所述下料槽设于所述料箱的下方,所述下料槽包括上料口和下料口,所述上料口位于所述定容下料器的下方,并接收通过所述定容下料器提供的电解质原料;其特征在于,所述下料槽内部设有滚筒,所述滚筒位于所述上料口和所述下料口之间,所述滚筒绕其旋转轴线作旋转运动,且所述滚筒的旋转轴线与所述上料口的中心线异面垂直;所述滚筒的表面形成有凹槽结构,所述电解质原料经所述上料口落入所述滚筒的凹槽结构内,所述滚筒受到所述电解质原料的作用力后开始旋转,并使得所述电解质原料实现先快后慢的下料速度,所述上料口设有挡板,所述电解质原料经所述挡板缓冲后落入所述滚筒的凹槽结构内,并带动所述滚筒旋转。
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