[发明专利]曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法

摘要

本发明是根据在载台(WST1)上搭载的四个读头(60₁～60₄)中、包含互异的一个读头的三个读头所属的第1读头群与第2读头群中所含的读头面对标尺板上对应区域的区域(A₀)内，使用第1读头群所得的位置信息驱动载台(WST1)，并使用以第1及第2读头群所得的位置信息求出对应的第1及第2基准坐标系(C₁、C₂)间的偏差(位置、旋转、定标的偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得的测量结果，据以修正第1及第2基准坐标系(C₁、C₂)间的偏差、以及四个读头(60₁～60₄)的分别面对的标尺板上的区域彼此间的偏差伴随的测量误差。

主权项

1.一种透过投影光学系统以照明光使基板曝光的曝光装置，其包括：照明光学系统，以该照明光照明掩膜；第1载台，配置于该投影光学系统的上方，保持该掩膜；第1驱动系统，驱动该第1载台；第1编码器系统，测量该第1载台的位置信息；基座，配置于该投影光学系统的下方；第2载台，具有保持该基板的保持装置，且配置于该基座上；第2驱动系统，具有在该基座上悬浮支承该第2载台的动磁方式或动圈方式的磁浮方式的平面马达，驱动该第2载台，以在包含与该投影光学系统的光轴垂直的既定面内彼此正交的第1方向、第2方向的6自由度方向移动该基板；第2编码器系统，具有设于该第2载台的四个读头，该四个读头对具有分别形成反射型二维光栅的四个部分的标尺构件将测量光束分别自下方照射，在透过该投影光学系统进行该基板的曝光的曝光站测量在该6自由度方向的该第2载台的位置信息；以及控制系统，在该基板的扫描曝光中，为了使该掩膜与该基板分别相对该照明光移动，根据该第1编码器系统的测量信息控制该第1驱动系统，并且根据该第2编码器系统的测量信息控制该第2驱动系统；该标尺构件，设置成在该曝光站中于该投影光学系统的下端侧使该四个部分与该既定面实质平行；该控制系统，以在该曝光站中在包含藉由从该四个读头逐一去除彼此不同的读头的四组三个读头分别测量该位置信息的四个座标系的移动区域移动该第2载台的方式，根据藉由在该移动区域内在该第2载台所位于的该四个座标系中的一个中所用的、该四组中的一组该三个读头所测量的该位置信息，控制该第2驱动系统，并且根据位于该四个读头分别与该四个部分相对的该移动区域的一部分的该第2编码器系统的测量信息，取得用来补偿因该四个部分的偏差所产生的该第2编码器系统的测量误差的修正信息；该修正信息用于在该移动区域的该第2载台的驱动控制。