[发明专利]频率稳定性谐振腔及其补偿体高度的获得方法在审

专利信息
申请号: 201510530595.6 申请日: 2015-08-26
公开(公告)号: CN105071010A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 曾成;杨聪聪;陈柳;宁俊松;补世荣 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01P7/06 分类号: H01P7/06;H01P1/30
代理公司: 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 代理人: 周永宏;王伟
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种频率稳定性谐振腔及其补偿体高度的获得方法,该频率稳定性谐振腔包括腔体和补偿体;腔体内部中空,构成谐振腔的上底面和至少一个侧面;补偿体位于腔体内,构成谐振腔的下底面。本发明提供的频率稳定性谐振腔,通过合理的选择补偿体材料以及设置补偿体的尺寸,可以提高谐振腔的频率稳定性;补偿体材料可以选择易于加工且价格便宜的材料,这样就可以实现采用易于加工的材料制作高频率稳定性谐振腔的目的,并且有效的降低了谐振腔的制作成本。
搜索关键词: 频率 稳定性 谐振腔 及其 补偿 高度 获得 方法
【主权项】:
一种频率稳定性谐振腔,其特征在于,包括腔体和补偿体;所述腔体内部中空,构成谐振腔的上底面和至少一个侧面;所述补偿体位于腔体内,构成谐振腔的下底面。
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